等離子體隱身機理研究

等離子體隱身技術(shù)作為一種全新的隱身概念,日益受到人們的關(guān)注.本文首先簡要介紹等離子體隱身的發(fā)展現(xiàn)狀;然后分別從折射效應和吸收衰減兩方面詳細論述等離子體隱身的基本原理,說明等離子體隱身是一種很有前途的隱身方法.

作 者： 莫錦軍 劉少斌 袁乃昌   作者單位： 國防科技大學,長沙,410073  刊 名： 現(xiàn)代雷達  ISTIC PKU 英文刊名： MODERN RADAR  年，卷(期)： 2002 24(3)  分類號： V21  關(guān)鍵詞： 等離子體隱身   折射效應   吸收衰減   雷達散射截面(RCS)  

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