摻雜Gd2O3對ZrO2薄膜負非均勻性的影響

ZrO2膜層具有明顯的負非均勻性,嚴重影響了在光學薄膜制備中的應(yīng)用,特別是對多層增透膜有明顯的影響.通過對膜層微觀結(jié)構(gòu)及生長成核過程的研究,揭示了ZrO2膜層負非均勻性產(chǎn)生的原因及特點.基于此,在ZrO2膜料中摻如一定量的Gd2O3膜料,在電子束蒸發(fā)和適當?shù)恼婵斩�、淀積速率、基底溫度等工藝條件下,明顯地降低了ZrO2膜層折射率的負非均勻性,從而提高ZrO2膜層光學使用性能.

作 者： 薛錦 王平秋 劉瓊 代禮密 XUE Jin WANG Pingqiu LIU Qiong DAI Limi   作者單位： 西南技術(shù)物理研究所,四川,成都,610041  刊 名： 光學儀器  ISTIC 英文刊名： OPTICAL INSTRUMENTS  年，卷(期)： 2009 31(6)  分類號： O484  關(guān)鍵詞： 光學薄膜   負非均勻性   膜料固相混合   膜層微觀結(jié)構(gòu)  

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